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淘淘西直銷!日本UNITEMP/尤尼真空工藝快速加熱爐RTP-100、
淘淘西直銷!日本UNITEMP/尤尼真空工藝快速加熱爐RTP-100
Φ4英寸兼容觸摸屏式前裝式
真空工藝快速加熱爐RTP-100
RTP-100前裝式真空工藝高速退火爐
RTP-100 前裝式
真空工藝快速退火爐
設(shè)備尺寸:505 x 505 x 570 mm (WxDxH)
設(shè)備重量:約 55 kg
非常適合原型開發(fā)。
加熱區(qū)域的頂部和底部配備IR(紅外線)型加熱器,最高溫度可達(dá)1200℃,并可高速升溫150K/秒。采用氮?dú)獯祾叻绞降睦鋮s方式,降溫速度高達(dá)190K/min。(1200至400℃,此后25K/min。)
觸摸屏用于輪廓程序控制。
除了創(chuàng)建溫度控制、氣體流量 (MFC)、真空控制等配置文件程序外,您還可以保存過程數(shù)據(jù)。
它可以加熱最大100x100mm或Φ100mm的物體。
盡管桌面尺寸可實(shí)現(xiàn)最高溫度1200℃的真空工藝快速加熱爐。
兼容氮?dú)獯祾摺⒀鯕獯祾?、合成氣(氫?氮?dú)猓┐祾叩取?/span>
由于工作區(qū)域是氣體保護(hù)的,因此可用于存在污染問題的工藝或其他關(guān)鍵工藝。
加熱由頂部和底部的 24 個(gè) IR(紅外線)加熱器進(jìn)行,可實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確、快速的加熱。
與適當(dāng)?shù)恼婵毡媒Y(jié)合,可實(shí)現(xiàn)高達(dá)0.1 Pa (10 -3 hPa)的真空環(huán)境。
兼容氮?dú)獯祾叻ǖ臏囟认陆?/span>
標(biāo)準(zhǔn)配備觸摸屏顯示器。通過觸摸操作輕松操作
主機(jī)上最多可注冊50個(gè)50段(行)的溫度控制程序。
配備高速紅外線 (IR) 加熱器,最高可升溫至每分鐘 9000°C 或更高(每秒 150°C 或更高)。當(dāng)然,也可以以輪廓程序的任何速率升高溫度。另外,在降溫過程中,通過向腔室中供應(yīng)冷卻氮?dú)?,可以安全地進(jìn)行冷卻,而不會(huì)損壞處理后的器件表面。
最多可以安裝4個(gè)MFC(質(zhì)量流量控制器)系統(tǒng),因此除了真空或大氣環(huán)境之外,還可以在任何工藝氣體吹掃環(huán)境中進(jìn)行退火。不僅可以在配置文件程序中注冊各種氣體系統(tǒng)的開/關(guān)控制,還可以注冊其流量,從而可以輕松再現(xiàn)各種環(huán)境。
標(biāo)配7英寸觸摸屏。任何控制配置文件程序都可以在觸摸面板上創(chuàng)建和保存,無需單獨(dú)的外部 PC。最多可注冊并執(zhí)行 50 個(gè) 50 個(gè)步驟的溫度控制程序。此外,標(biāo)準(zhǔn)配置還包括將實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)保存到 USB 存儲(chǔ)器的功能。通過 USB 存儲(chǔ)器也可以輕松地將實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)移動(dòng)到任何 PC。
腔室的開啟和關(guān)閉采用手動(dòng)前裝方式。將晶圓放在托盤上后,向后滑動(dòng)托盤并將控制桿移至鎖定位置。
前裝式真空工藝快速加熱爐(RTP 型)專為尋求緊湊、價(jià)格實(shí)惠的設(shè)備的客戶而設(shè)計(jì)。除了多功能晶圓表面處理之外,該設(shè)備還可以靈活支持漿料燒結(jié)和有機(jī)成膜等多種應(yīng)用。
有效加熱面積為100x100x18mm,但通過使用可選的適配器,它可以支持Φ50mm和Φ75mm的晶圓。
標(biāo)準(zhǔn)配備1條質(zhì)量流量控制器(MFC)氣體管線,可通過程序(物體)自由設(shè)定氣體流量并使用。總共可以添加4個(gè)氣體模塊,并且還可以使用質(zhì)量流量控制器來控制氣體流量。
腔室外殼可承受高達(dá)0.1Pa(10-3mbar)的真空度,因此通過適當(dāng)選擇要連接的真空泵,它也可以在高真空環(huán)境中使用。此外,該設(shè)備最重要的一點(diǎn)是它可以使用 IR(紅外)加熱器處理高達(dá) 70K/秒的高溫升溫速率。
配置文件程序由新型觸摸屏控制器精確控制。您可以在觸摸屏控制器(SPS控制器)上注冊最多50個(gè)最多50段(線)的程序,因此您可以通過簡單的操作調(diào)用并執(zhí)行所需的加工程序。除了創(chuàng)建程序外,您還可以將執(zhí)行過程的各種數(shù)據(jù)保存為 CSV 格式,因此您只需主機(jī)即可完成所有操作,而無需依賴外部 PC。
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