產(chǎn)品分類
Product Category樣品拋光機(jī)是用于制作光學(xué)顯微鏡樣品、電子顯微鏡樣品以及強(qiáng)度試件的加工機(jī)械,用于實(shí)驗(yàn)室、實(shí)驗(yàn)室、質(zhì)量控制部門等進(jìn)行測試、檢驗(yàn)和分析。
為了進(jìn)行各種目的的拋光,有多種類型的拋光板、拋光片、拋光輪(布等)、拋光劑和夾具。許多設(shè)備相對較小,可以安裝在桌面上,并且有易于操作的手動機(jī)器,根據(jù)目的和用途有多種類型和產(chǎn)品,例如類型和夾具類型。
樣品拋光機(jī)用于執(zhí)行以下拋光過程。
此工藝使工件表面呈現(xiàn)鏡面狀。主要用于利用光學(xué)顯微鏡和電子顯微鏡進(jìn)行表面觀察試樣的制備。
該過程包括減薄工件并將其拋光至所需的厚度。主要用于巖石、礦物、土壤、陶器、骨骼等的制備,以及TEM樣品和EPMA樣品在前處理過程中的細(xì)化。
這是一種拋光工藝,以獲得表面平整度,這是加工的標(biāo)準(zhǔn),以及必要的尺寸、平行度和平面度。主要用于制備強(qiáng)度試驗(yàn)和拉伸試驗(yàn)的樣品。
這是一種拋光工藝,以獲得所需的表面粗糙度。主要用于制備強(qiáng)度試驗(yàn)和摩擦磨損試驗(yàn)的樣品。
通過物理動作進(jìn)行拋光。
自由磨料加工法
將磨粒直接施加到平臺或拋光輪上進(jìn)行拋光的方法。 磨料(磨粒)的把持力較弱,拋光劑(磨粒)一邊滾動(滾動)一邊作用于拋光表面,產(chǎn)生拋光效果。 與固定磨粒相比,對工件造成的損傷較小,適合最終拋光。 由于磨粒因破碎而變小,并且隨著磨粒從加工表面流出并變小,拋光效率降低,因此需要定期供給磨粒。 主要用于研磨和拋光(拋光)。
固定磨料加工法
是指用結(jié)合劑等固定磨粒進(jìn)行拋光的方法。 具有較強(qiáng)的保留磨料(磨粒)的能力,適合高效拋光。 與使用游離磨粒的拋光方法相比,該方法對工件造成更大的損傷,并且由于磨粒磨損(破碎)和堵塞而導(dǎo)致磨削功率下降。 需要定期更換拋光片并磨利拋光盤。 主要用于粗拋光。
將工件浸入化學(xué)品中以溶解并拋光表面。主要用于去除機(jī)械拋光造成的損傷層,制備金相樣品。
化學(xué)機(jī)械拋光(英文:Chemical Mechanical Polishing)是涉及化學(xué)作用的機(jī)械拋光(物理拋光)的總稱,是通過物理和化學(xué)作用使工件表面平整、光滑的拋光技術(shù)。它用作基材的最終拋光方法,目的是去除受損層并使表面光滑。
這是一種將工件浸入電解液中,通以電流,使工件表面熔化,獲得拋光效果的方法。僅適用于某些金屬,例如不銹鋼和鋁。
這是一種簡單而緊湊的樣品拋光機(jī),可以用手夾持和拋光工件。用于粗拋光至精拋光,根據(jù)加工目的需要技巧。 主要采用機(jī)械拋光。
根據(jù)拋光的目的,可以使用樣品架和導(dǎo)臂等夾具(樣品架)來進(jìn)行高精度拋光。用于鏡面拋光、平行平面拋光等。 主要用于機(jī)械拋光,在某些情況下也可用于CMP。
該方法通過將工件浸入電解液中并施加直流電源來產(chǎn)生拋光效果。
選擇樣品拋光機(jī)時,應(yīng)注意以下事項(xiàng)。
樣品尺寸(選擇能拋光待拋光樣品尺寸的拋光機(jī))
樣品材質(zhì)(選擇適合材質(zhì)的拋光板、拋光片、拋光劑等)
拋光目的(拋光方法、夾具的選擇等)
精度(提前明確表面粗糙度等要求)
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